La course aux puces : comment la Chine rattrape son retard grâce à un laboratoire EUV ultra-secret

La lithographie extrême ultraviolet (EUV) est le verrou technologique de l’industrie des semi-conducteurs depuis plus d’une décennie, dominé par ASML aux Pays-Bas. Fin 2025, la Chine franchit un cap stratégique : un laboratoire ultra-sécurisé à Shenzhen teste désormais un prototype de machine EUV. Ce n’est pas encore une production commerciale, mais c’est un tournant dans la compétition technologique sino-américaine.

Pourquoi la lithographie EUV est cruciale pour le leadership technologique

La lithographie EUV permet de graver des circuits de 3 nm et moins, essentiels pour :

L’intelligence artificielle et les algorithmes de machine learning avancés
Les smartphones haut de gamme et processeurs mobiles
Les systèmes militaires et de défense avancés
Le calcul haute performance (HPC) et les supercalculateurs

Chiffres clés :

💰 Coût moyen d’une machine EUV : 250 millions de dollars (ASML)
⚖️ Poids : 180 tonnes
⏱️ Temps de R&D avant production commerciale : 20 ans (mise en production 2019)
🏭 Exportation vers la Chine : 0 machine depuis l’embargo américain de 2019

Insight stratégique : maîtriser l’EUV, c’est contrôler la chaîne de valeur mondiale des semi-conducteurs avancés.

Le laboratoire secret de Shenzhen : avancées et limites

Selon Reuters :

✔️ Prototype EUV fonctionnel assemblé début 2025
✔️ Génération de lumière EUV à 13,5 nm, étape la plus complexe
❌ Pas encore de production commerciale
❌ Rendements industriels inexistants
❌ Optique encore loin des standards ASML

Ce laboratoire sert de démonstrateur technologique, pas d’outil industriel.

Le “Manhattan Project” technologique chinois

Le projet est hautement confidentiel :

Ingénieurs travaillant sous faux noms et équipes cloisonnées
Accès téléphonique restreint
Supervision directe par la Commission centrale science & technologie, proche de Xi Jinping

Objectif officiel : exclure les États-Unis de la chaîne d’approvisionnement en semi-conducteurs avancés.

Huawei, pivot de l’écosystème EUV chinois

Huawei coordonne :

Universités, laboratoires publics et industriels
Plus de 3 000 chercheurs impliqués
Collaboration avec SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment Group)

Huawei relie conception de puces, machines de fabrication et produits finaux (IA, télécoms, défense).

Le vrai talon d’Achille : l’optique EUV

Le principal blocage reste les miroirs ultra-précis :

ASML dépend de Carl Zeiss (Allemagne)
Tolérance requise : <1 nanomètre
La Chine n’a pas encore de solution viable

Sans cette optique, la production industrielle reste impossible.

Calendrier prévisionnel : 2028 ou 2030 ?

Objectif officiel Pékin : 2028 pour puces fonctionnelles
Experts : 2030 voire plus réaliste
Comparatif : ASML a mis 11 ans pour passer de prototype à production industrielle, avec toute la supply chain occidentale

Où en est la Chine dans la course aux puces ?

Segment	Situation réelle
EUV	Prototype fonctionnel, non industriel
DUV	Progression rapide, déjà opérationnel
Puces <7 nm	Très limité, faible rendement
Écosystème complet	Incomplet

Conclusion : la Chine n’a pas encore gagné la course, mais réduit un retard stratégique.

Conclusion : rupture stratégique, pas domination technologique

Le laboratoire secret de Shenzhen ne change pas l’ordre mondial immédiat, mais marque une rupture. La dépendance technologique de la Chine n’est plus totale. La question n’est plus “si” mais “à quel coût et à quelle vitesse ?”.